Beyond sapphire: LED substrates from GaN to ZnO, SiC, and Si
2017-10-10

### 희토류 산화물 연마 분말 제조 공정 및 설비


**주요 장비:**

용해 탱크, 침전 탱크, 필터, 소성기, 분쇄기, 고분말 체


**주요 공정:**

1. 원료 → 용해 → 복합 염 침전 → 필터 세척 → 고온 소성 → 분쇄 → 고분말 체 → 저급 세륨 희토류 연마 분말 제품


**주요 성분:**

세륨 산화물 (CeO2), 란타늄 산화물 (La2O3), 프라세오디뮴 산화물 (Pr2O3), 란타늄 산화물-플루오라이드 (LaOF), 그 외 극미량의 규산, 알루미나 및 산화칼슘


### 고세륨 희토류 연마 분말 제조


**주요 장비:**

소성기, 물 빠르게 냉각 탱크, 분류기, 필터, 건조 박스


**주요 공정:**

1. 원료 → 고온 소성 → 물 빠르게 냉각 → 수산화 분류 → 여과 → 건조 → 고세륨 희토류 연마 분말 제품


**주요 지표:**

제품 w (REO)=99%, w (CeO2) =99%; 희토류 회수율 약 95%


### 세륨 기반 희토류 연마 분말 제조


**주요 장비:**

산화 탱크, 우수 탱크, 산 탱크, 침전 탱크, 필터, 소성기, 분쇄기, 포장 기계


**주요 공정:**

1. 원료 → 산화 → 우수 → 필터 → 산용액 → 침전 → 세척 필터 → 고온 소성 → 분쇄 → 중간 세륨 희토류 연마 분말 제품


**주요 지표:**

제품 w (REO)=90%, w (CeO2) = 80%~85%; 희토류 촉매 재료 회수율 약 95%; 평균 입자 크기 0.4마이크론에서 1.3마이크론


### 저세륨 희토류 연마 분말 제조


**주요 공정:**

1. 원료 → 이중 염 침전 처리 → 저세륨 희토류 연마 분말 제품


**주요 지표:**

제품 w (REO) >45%, w (CeO2)>48%


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